高温・真空・ガス置換小型加熱 冷却ステージ Model S84C
光学測定のためのアタッチメントで試料を極低温下-190℃から高温の+500℃まで任意の温度にて光学測定をするための加熱冷却装置です。温度可変加熱冷却ステージ、液体窒素容器、温度コントローラーから構成されます。
光学測定のためのアタッチメントで試料を極低温下-190℃から高温の+500℃まで任意の温度にて光学測定をするための加熱冷却装置です。温度可変加熱冷却ステージ、液体窒素容器、温度コントローラーから構成されます。
室温から-180℃までの温度可変タイプになります。クライオスタット内の液体窒素デュワーよりの自然蒸発ガスによって加圧し、キャピラリーノズルを介して試料室前部の冷 …
Heat Chamber 低温バージョンは、-190°Cまでの冷 却が可能な、加熱冷却拡散反射測定用ヒートチャン バーです。 基本構成は標準のHea …